Pulitore per wafer ad alte prestazioni Sistema automatico

Questo sistema molto affidabile ed economico utilizza un collaudato ugello per acqua deionizzata a pressione o nebulizzazione

Una tecnica di asciugatura efficace utilizza velocità di centrifuga elevate e azoto assistito

Dimensioni wafer fino a 8"

Un sistema di reti nervose genetiche che utilizza il PC

Le funzionalità del software migliorano con l'hardware specializzato che offre prestazioni di processo elevate