Pembersih Wafer berprestasi tinggi Sistem automatik

Sistem yang sangat boleh dipercayai dan menjimatkan penggunaan ini menggunakan Air Bertekanan Tekanan atau Nozel Atomizing Mist yang terbukti

Teknik Pengeringan yang berkesan menggunakan High Spin Speeds dan Nitrogen Assist

Saiz wafer hingga 8 "

Sistem rangkaian saraf genetik menggunakan PC

Peningkatan ciri perisian dengan perkakasan khusus memberikan prestasi proses yang tinggi