Semi-automated na sistema ng paglilinis ng wafer na reticle

Ang konstruksiyon ng hindi kinakalawang na asero na angkop para sa mga solvents, surfactant, at DI-Water

Ang paglilinis ng solong substrate sa pamamagitan ng programmable na pagtatapon ng kemikal, banlawan, at patuyuin

Pinapayagan ng universal chuck ang pagproseso ng 8 inch wafer, Frame 11,64 "(max)

Mga kontrol na nakabatay sa PC gamit ang GUI, walang limitasyong mga recipe, at pagkakakonekta ng Ethernet