高性能 Photo-Mask 清潔器 SEMI-AUTO 系統

可靠且具有成本效益的系統採用經過驗證的壓力去離子水或霧化霧化噴嘴。

使用高轉速和氮氣輔助的有效乾燥技術

面罩方形尺寸 5x5”、7x7” 和 9x9”（玻璃）

使用PC的遺傳神經網絡系統

軟件功能通過專用硬件增強，提供高處理性能